液体抛光蜡的质量及液体抛光蜡浓度值对抛光产品的影响

很多产品在出厂前都要经过液体抛光蜡，以显示产品表面的平、滑、亮、光的效果，提高产品的投放价值。所以，液体抛光蜡作为现在加工行业最广泛应用的材料之一，在抛光过程中质量标准有哪些？其浓度值对工件有何影响？

    下面，恒生磨料为您介绍“液体抛光蜡的质量要求及液体抛光蜡浓度值对工件的影响”：

    使用液体抛光蜡的工具：海绵盘、纳米毛巾、抛光机 抛光轮等

　　材料：液体抛光蜡（粗、中、细）

　　抛光作用：解决漆面氧化层、条纹、污染、褪色等影响漆面外观的深层问题。

　　抛光原则：由重到轻，重力研磨，轻力提光。

　　液体抛光蜡的抛光三环节：研磨、抛光、还原。通过表面预处理清除漆面上的污物，消除严重氧化及微划痕或减轻表面缺陷，使漆面上无氧化层、条纹、污染、褪色等缺陷。

　　在我们了解液体抛光蜡的质量要求外，液体抛光蜡的浓度值对工件粗糙度有何影响呢？

　　液体抛光蜡的浓度值直接关系到抛光机上工件的加工效果，具体来说是影响工件粗糙度的值。液体抛光蜡的浓度不宜过浓或过稀，它们之间有一个最佳浓度值，只有在这个最佳的范围内才能保证工件表面粗糙度的良好性。液体抛光蜡过浓的话会导致研磨时，工件表面的磨削力变大，会导致表面有划痕，不光滑，同时粗糙度变大。当液体抛光蜡过稀时，工件表面磨削力太小，去除表面很慢也起不到去除斑点、划痕的效果，粗糙度也人变大。因此只有液体抛光蜡浓度适当时这些问题才能彻底解决。

　　假设抛光轮转速为6000 r/min，液体抛光蜡流量为0.6L/min。随着CeO2浓度的增大，氮化硅陶瓷加工表面Ra值变小，当液体抛光蜡浓度超过最佳浓度值后，Ra值增大。其原因是: 液体抛光蜡浓度较低时，液体抛光蜡中CeO2微粒不足，即没有足够的CeO2微粒参与化学反应，从而使氮化硅材料的去除率较低，表面粗糙度差；当液体抛光蜡浓度增大时，化学机械抛光过程中参与化学反应的原料供应增加，加大了有效机械研磨作用，使局部温度升高，化学反应加速，并且生成的软质层被有效去除，从而实现了较高的去除率和加工表面质量; 液体抛光蜡的浓度进一步增大时，化学作用得到进一步的增强，但是机械作用相对不足，导致表面粗糙度值增大。